Anvendelse

Oxidationsdiffusionsovnen er et vigtigt procesudstyr til produktion af PV -celler. Det blander og diffunderer sporemængder af bor, fosfor og andre elementer på siliciumskiven ved høje temperaturer for at fremstille PN -kryds og sammensatte integrerede kredsløb fra det. Det kan også bruges til at fremstille Siox -film på overfladen af siliciumskiven for at beskytte skiver. Det er almindeligt at bruge termoelementer, der måler både de indre og ydre dele af ovnen for at kontrollere den indre temperatur i diffusionsovnen, der kan udføre oxidationsprocessen. Hver specificerede temperaturzone har en ydre og indre termoelement for at sikre, at målingsresultaterne er pålidelige. Multipoint Noble Metal Quartz -termoelementerne bruges til at måle skivens temperatur, den har ofte 3 ~ 9 målepunkter, der repræsenterer skivetemperaturen nøjagtigt.

Produkter Beskrivelse

Til dette formål har Duchin udviklet proprietære teknikker og produkter såsom Multipoint Noble Metal Quartz Thermocouple til temperaturmåling af hele sektionen i diffusionsovnen, en kalibreringsindretning til multi-point termoelement.

Produktet har nogle træk med pålidelig temperaturmåling, høj nøjagtighed, god stabilitet, hurtig termisk respons, anti-interferens, høj og lav temperatur påvirkningsmodstand, lang levetid og så videre. De tekniske parametre for halvlederprofilen termoelement er som følger:

Tekniske parametre	Halvlederprofil termoelement
Type	S,R
Ledning eller mims diameter	φ0.35~0.5
Arbejdstemp (grad)	0~1100
Nøjagtighed (grad)	±1.0
Beskyttende rørlængde (MM)	Mindre end eller lig med 4000
Beskyttende rørdiameter (MM)	φ12~18
Beskyttende rørmateriale	Kvarts
Hot End Structure	Udsat
Antal point	3 ~ 6 point
Afslutning	Lille stik
Kompensationstråd	SC {{0}} × 0,5fpf
Strukturkarakteristika	At samle T/C i kombination for hvert punkt er ret vanskeligt